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PALABRAS ALADAS, UNIDADES FRASEOLOGICAS
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Palabras aladas, unidades fraseológicas. Significado, historia de origen, ejemplos de uso.

Palabras aladas, unidades fraseológicas

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A través de la plataforma de tocones (para derribar)

Proverbios y refranes
Proverbios y refranes

fraseologismo: A través de la plataforma de tocones (para derribar).

Significado: 1. Haz algo. de alguna manera, deshonestamente, descuidadamente. 2. Indiscriminadamente, al azar. 3. Inconsistentemente, intermitentemente (simplemente desaprobado).

Origen: Hay dos versiones del origen de esta expresión: 1) la expresión surgió entre los leñadores. Inicialmente, el fraseologismo se usó en forma de comparación: [para hacer algo] cómo derribar una cubierta a través de un tocón, derribar, como a través de un tocón una cubierta, es decir, tan inconveniente como arrastrar un tronco grueso a través de un tocón. tocón, 2) se asocia con caminar a lo largo de cortavientos, donde pasas "sobre el tocón hacia la plataforma", es decir, al pisar el siguiente tocón, puedes poner tu pie en una plataforma podrida.

Fraseología aleatoria:

De las mangas del chaleco.

Significado:

Sobre algo. extremadamente sin sentido, inexistente, sin tener nada que ver con algo. sin relación (simple broma-hierro.).

Origen:

La idea de la tontería se transmite aquí de una manera que no puede existir en la realidad.

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Investigadores del Instituto Tecnológico de Georgia (EEUU) han desarrollado una nueva forma de obtener estas películas mediante la tecnología de deposición de capas atómicas.

No se trata de la película frágil que puede sellar una bolsa de galletas, sino de una película de barrera de alta gama que protege, por ejemplo, la pantalla OLED de un teléfono de la exposición al oxígeno o al vapor de hidrógeno. La producción de una película de este tipo requiere materiales con características de alto rendimiento: óxidos metálicos. Los métodos existentes para fabricar esta protección de alto rendimiento son imperfectos. Debido al proceso de fabricación, las películas suelen presentar pequeñas imperfecciones, que permiten la entrada de agua u oxígeno a través de diminutos orificios.

Samuel Graham y sus colegas del Instituto de Tecnología de Georgia han estado estudiando cómo se puede utilizar la tecnología de deposición de capas atómicas para mejorar la calidad de las películas protectoras. Como resultado, los científicos han creado nuevas películas que pueden proteger la electrónica incluso en condiciones extremas, por ejemplo, cuando se sumergen en agua salada durante varios meses. Al crear tales películas protectoras, es posible extender significativamente la vida útil y la confiabilidad de los dispositivos electrónicos. Se propone que dicho recubrimiento se use para dispositivos biomédicos implantables, diodos emisores de luz, pantallas, células solares y ventanas electrocrómicas orgánicas, que cambian el grado de transmisión de luz cuando se aplica voltaje.

Las películas de barrera de alto rendimiento generalmente se fabrican utilizando un método de pulverización catódica o un método de deposición química de plasma. En estos métodos, el material se "pulveriza" sobre un sustrato o se cultiva a partir de un plasma, creando una capa delgada que se convierte en una película. Y aunque estos métodos se utilizan ampliamente en la industria, a menudo provocan defectos, por lo que se requieren varios recubrimientos para crear una barrera protectora de alta calidad.

Con la tecnología de deposición de capas atómicas, los investigadores pueden controlar con precisión el proceso, hasta el nivel molecular. Esto le permite crear las películas más delgadas con defectos mínimos. Durante el proceso de fabricación, los investigadores rodean el sustrato con un gas que contiene átomos de metal, en particular aluminio. Las moléculas de gas se depositan en el sustrato, formando una sola capa de átomos. Luego, el exceso de gas se elimina de la cámara y se introduce otro gas en ella, lo que crea un óxido metálico que es impermeable al aire y al agua. Este proceso se repite para lograr el espesor de película deseado, que puede ser tan bajo como 10 nm.

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